商品案内

 

真空技術をベースにパーツからシステムまで研究開発をサポートします

※ Special Chambar以外は協力会社による作成なので多少お時間を頂く場合があります。

装置

超高真空多層膜蒸着装置 Si系MBE
化合物半導体用MBE
有機MBE
高真空蒸着装置 酸化膜形成装置
レーザーアブレーション装置
マグネトロンスパッタ装置
卓上型蒸着装置
エッチング装置 イオン/ケミカルエッチング装置
コーティング装置 スパッタコーティング装置
真空加熱装置 加熱真空炉、乾燥炉
分析装置 2次イオン質量分析装置
CDV対応分析装置
昇温脱ガス分析装置
質量分析装置(Qマス、TOF)

コンポーネント・部品

R-HEED 反射高速電子回析装置
EB-GUN 電子ビ-ム加熱蒸発源
特殊電子銃 静電偏向型電子銃
エレクトロンシャワー用電子銃
パルス電子銃
ION GUN 低加速イオンガン
カウフマン型イオンガン
マグネトロンスパッタ電極 DC、RF対応
分子線蒸発源 クヌードセンセル
ガスセルラジカルセル
クラッキングセル
バルブソースセル
多軸マニピュレーターとサンプルホルダー
基盤加熱、冷却機構 各種ヒーター選択可能
ビームモニター ファラデーカップ方式
二次電子倍増管
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